一.背景

硅片清洗劑主要用在單多晶線切割后的硅片表面清洗處理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表面潔凈如一，特別適用于太陽能硅片清洗，有利于硅片制絨，提高電池片的轉化效率；市面常見硅片清洗劑主要有三種，分別是單組份清洗劑，雙組份清洗劑，多組分清洗劑；硅片清洗劑大多數呈堿性液體，主要成分是苛性堿、磷酸鹽、硅酸鹽、碳酸鹽、鰲合劑和表面活性劑；雙組份硅片清洗劑的A劑主要有鉀鹽、緩蝕劑、絡合劑、助洗劑組成，B劑主要由表面活性劑聚合復配而成。

硅片清洗劑利用化學剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的顆粒、有機物、金屬離子等污染物去除。清洗劑中的活性物質可以吸附在硅片表面，使其長期處于易清洗的物理吸附狀態（>120h），而不像難清洗的化學吸附狀態轉化，并在表面形成保護層，防止顆粒的二次吸附，實現了把有害吸附轉化為無害吸附。能有效提高外延或擴散工序的成品率。

二.硅片清洗劑

2.1特點

1.對動物油、植物油、礦物油污、懸浮液、碾磨膏的乳化、皂化、洗凈性都有很好的表現，對金屬離子有很強的剝離、絡合、洗凈效果；

2.對金屬離子有很強的剝離、絡合、洗凈效果，經檢測對油污的洗凈率為99%，對銅、鐵等金屬離子的剝離、絡合、洗凈效果達到98%以上；

3.低泡產品，適合在超聲波上使用,不會有泡沫溢出；

4.除鉀、鈉離子以外的金屬離子含量不高于50PPm，清洗后的硅片表面無殘留,硅片制絨及光電性能好；

5.該清洗劑濃縮度高，可稀釋20-50倍，而且該產品粘度低、高效、環保無磷、無毒；

6.對被清洗的硅片及清洗設備不會產生腐蝕；

2.2技術指標：

2.3適用范圍：

適用于多晶硅、硅片及相關的硅片及延伸產品浸漬、噴淋清洗處理。超聲波效果更佳。 

2.4硅片配方技術

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