HCC-1015雙組份硅片清洗劑

1.產(chǎn)品用途：

硅片清洗劑廣泛應(yīng)用于光伏，電子等行業(yè)硅片清洗。雙組份硅片清洗劑適用范圍廣，A、B組份配合使用，洗滌能力更易調(diào)節(jié)，洗滌劑消耗更合理。

2.產(chǎn)品特點：

硅片清洗劑為雙組分產(chǎn)品：

A劑：由苛性鉀、緩蝕劑、絡(luò)合劑和助洗劑組成。試劑級苛性鉀，為洗滌液提供皂化堿度；聚合的高效緩蝕劑、絡(luò)合劑、助洗劑提供全面的洗凈性能。

B劑：由多種表面活性劑復(fù)配而成。提供硬表面強力滲透力、協(xié)同各組分，充分發(fā)揮各自的性能。

對各種油脂、懸浮液和研磨膏等油性污垢，進行乳化、皂化，油污洗凈率大于99%；對金屬離子有很強的絡(luò)合、剝離效果，對銅、鐵等金屬離子的洗凈效果達到98%以上。不含鈣、鎂、鐵、銅、鉛等金屬離子，環(huán)保性好。

高濃縮雙組分產(chǎn)品，尤其適合清洗重污垢硅片；不含磷，符合歐盟ROHS環(huán)保要求；低泡產(chǎn)品，超聲波清洗線使用，不會有泡沫溢出；除鉀、鈉離子以外，其他金屬離子含量不高于50PPm，能滿足高精度的IT要求。

3.使用工藝：

a）在清洗槽中先加3/4純凈水；

b）如果在手動線使用，建議每100升槽液中加入1～2公斤A型硅片清洗劑和0.5～1公斤B型硅片清洗劑，并盡可能減少中間的添加量，提高工作效率，當(dāng)遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時可以根據(jù)具體情況在每8小時添加開槽量的一半，為了保證清洗效果，建議每清洗10000～12000片硅片徹底更換。

c）一般每公斤本清洗劑可以處理125#單晶硅片2000片以上，添加時可以根據(jù)該比例計算，當(dāng)遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時應(yīng)適當(dāng)增加藥劑量，當(dāng)然在保證硅片成品率的情況下也可適當(dāng)減少添加量；

d）將純凈水加至操作液位，加溫到所需要溫度，即可以使用；

e）硅片在清洗過程中盡可能減少裸露在空氣中的時間，以防止產(chǎn)生花片。

4.注意事項：

a)線切后的晶棒不可以沾水，如不能及時清洗，最好先存放在懸浮液或清洗劑中（全部浸沒）。

b)線切后的晶棒一旦上架清洗，必須馬上處理。而且在整個清洗過程中不可讓硅片自然干躁。

c)脫膠時必須保持硅片潤濕，亦不可自然干燥。

d)一、二槽超聲波清洗時須先關(guān)閉鼓泡開關(guān)，待上架完成后再開鼓泡，主要避免產(chǎn)生碎片。

e)每個清洗周期完成后（如班次的更替），徹底更換五、六、七、八槽的清水槽。

f)清洗人員在整個清洗過程中不得直接接觸硅片，必須佩帶超薄橡膠手套，以免產(chǎn)生指紋印。

g)為保證硅片清洗的潔凈度，在脫膠前的噴淋沖洗時間最好控制在30分鐘以上。

h)在使用中如遇到臟片、白斑等等問題時可及時與吉丹公司的技術(shù)服務(wù)人員聯(lián)系。

i)清洗液在排放時只要中和、凝絮、沉降等等簡單處理，本產(chǎn)品不含重金屬、磷。

5.包裝規(guī)格：

塑料桶包裝，25kg / 50kg，按客戶要求包裝。保質(zhì)期1年；請存放于陰涼、通風(fēng)干燥處，避免日光暴曬，注意防凍。